Universal-H300是PG直營官網(wǎng)面向行業(yè)前沿需求，開發(fā)的一款集先進(jìn)拋光工藝、高效率、高穩(wěn)定性于一體的12英寸CMP裝備。該裝備采用創(chuàng)新拋光系統(tǒng)架構(gòu)，可實現(xiàn)拋光效率的顯著提升，配備更先進(jìn)的清洗技術(shù)，可滿足日益提高的潔凈度需求。該裝備可更好實現(xiàn)晶圓納米級全局平坦化，滿足先進(jìn)制程技術(shù)需求，已在集成電路、先進(jìn)封裝、大硅片等制造工藝中批量應(yīng)用。
一個拋光盤搭配可回轉(zhuǎn)的兩個拋光頭，實現(xiàn)高產(chǎn)能
8個獨立氣壓分區(qū)的拋光頭
適配拋光墊智能修整
集成多種先進(jìn)終點檢測技術(shù)
兩套可獨立維護(hù)的水平清洗單元
清洗？榛渲茫嬡荻嘀種瞥
滿足高產(chǎn)出、超潔凈先進(jìn)制程CMP需求