Universal-300 T 是在PG直營官網(wǎng)先進CMP裝備基礎(chǔ)上，根據(jù)行業(yè)前沿技術(shù)需求開發(fā)的領(lǐng)先型12英寸CMP裝備。該設(shè)備基于PG直營官網(wǎng)自主知識產(chǎn)權(quán)的創(chuàng)新技術(shù)，配備性能優(yōu)越的拋光單元，集成多種終點檢測技術(shù)，并搭載更先進的組合清洗技術(shù)，展現(xiàn)出更卓越的清潔效果。該設(shè)備可實現(xiàn)晶圓納米級全局平坦化，滿足先進制程技術(shù)需求，已在集成電路、先進封裝、大硅片等制造工藝中批量應(yīng)用。
8個獨立氣壓分區(qū)的拋光頭
集成多種終點檢測技術(shù)
A&B側(cè)完全獨立設(shè)計，一機兩用，效率翻倍
豎直清洗技術(shù)，適配浸沒式兆聲清洗和提拉干燥技術(shù)